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3月27日，光刻机板块推崇活跃，新莱应材(300260.SZ)午后开盘快速“20cm”涨停，国风新材(000859.SZ)、凯好意思特气(002549.SZ)、西陇科学(002584.SZ)、海立股份(600619.SH)、冠石科技(605588.SH)、兴业股份(603928.SH)、江化微(603078.SH)、常青科技(603125.SH)等“10cm”涨停，佳先股份(430489.BJ)、芯碁微装(688630.SH)等公司涨幅居前。

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音讯面上，3月26日，SEMICON China 2025在上海开幕。深圳新凯来工业机器有限公司(下称“新凯来”)初次公开亮相，并发布多款产物，掩盖半导体制造全历程，包括EPI“峨眉山”产物、ETCH“武夷山”产物、CVD“长白山”产物、PVD“普陀山”产物、ALD“阿里山”产物等。

天眼查夸耀，新凯来配置于2022年6月7日，其背后鼓舞折柳为新凯来时期有限公司和深圳市均隆高新产业创业投资中心(有限结伙)。

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就新凯来的产物及发展情况，期间财经3月27日向新凯来方面发去了采访提纲,但限度发稿未获灵验恢复。

据半导体产业纵横报谈，新凯来自配置之初就对准国内半导体制造企业的高端装备需求。其从2022年开动快速构建研发团队、组织行业资源，从客户需求到系统打算，从零部件开发到整机集成，3年潜心研发。3月26日，新凯来发布的13类产物涵盖了光学检测、光学量测、PX 量测、功率检测等限制。

新凯来量检测装备产物线总裁郦舟剑在罗致媒体采访时提到，“现时首要管束先进制程问题，外洋工艺节点也曾走的更开首，咱们也会朝这个办法执续地勤劳，这需要期间，但咱们有信心。”

国泰君本分析称，好意思系厂商主导的刻蚀、千里积、量检测、离子注入等主要半导体开拓入口或进一步受阻，倒逼国产开拓加快发展。

国信证券计划夸耀，光刻机手脚通盘半导体制造开拓中难度最高、最难冲破的一环，占晶圆出产开拓总市集的24%。从UV到EUV，光刻机阅历了五代发展和进化，每次光源的雠校皆权贵进步了光刻机所能终了的最小工艺节点。把柄前瞻计划院数据，光刻机由光源、曝光和双责任台三大中枢系统构成，一台EUV光刻机内含有超10万个精密零部件，群众供应商超过5000家。其中光学系统是最紧要的子系统之一，约占合座光刻机本钱的30%。

从3月27日光刻机板块涨停个股来看，据Wind数据，新莱应材是超方正净开拓重要部件的专科供应商，产物平方诈欺于食物饮料、生物医药及泛半导体行业；国风新材深度聚焦高分子功能膜材料、光电新材料、聚酰亚胺材料、绿色环保木塑新材料、新动力汽车轻量化材料五大产业；冠石科技主买卖务为半导体夸耀器件及特种胶粘材料的研发、出产和销售；江化微主营超净高纯湿电子化学品及光刻胶配套湿电子化学品。

这其中，开源证券研报指出，新莱应材产物自在7nm先进制程需求，批量委用AMAT、LAM、朔方华创、长江存储等群众半导体龙头。公司产物教训可批量出货，国内进展告成，后续订单有望执续落地。

国风新材在2024年年报中流露，公司聚酰亚胺薄膜材料可平方诈欺于柔性夸耀、集成电路、芯片柔性封装、5G通讯、新动力汽车、电气电子、航空航天等限制，现在已批量出产的聚酰亚胺薄膜主要产物为FCCL用聚酰亚胺黄色基膜、装束用聚酰亚胺黑膜、聚酰亚胺碳基膜和芯片封装用聚酰亚胺薄膜。

冠石科技则在2024年半年报中浮现，答复期内完成了光掩膜版技俩，预测建成投产后，公司将成为国内时期智商先进的寂寞光掩膜版出产企业，提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性。

关于江化微，华鑫证券研报浮现，公司在湿电子化学品限制具有较强的市集竞争力，尤其是在高端半导体和光刻胶配套试剂业务方面推崇杰出，并已终了G5品级产物的量产，在华虹集团、长鑫存储等高端半导体客户中变成销售，进一步安谧了在行业中的开首地位。

关于国内光刻机产业的发展，光大证券研报浮现，现在国内的IC前谈光刻机市集主要被ASML、Nikon和Canon均分。ASML为国内光刻机最大的入口来源。上海微电子是国内光刻机头部厂商，其自主研发的600系列光刻机可批量出产90nm工艺的芯片。可是在时期层面，上海微电子的IC前谈光刻机与国际先进水平差距仍较大，国产光刻机仍任重谈远。

限度3月27日收盘，万得光刻机看法指数飞腾4.99%至3362.53点。

(包袱剪辑：郭健东 )

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